共催・協賛行事

第19回シンポジウム「原子・分子レベルでの材料創製とキャラクタリゼーション」

  • 主催:
  • 大阪電気通信大学・エレクトロニクス基礎研究所
  • 協賛:
  • 炭素材料学会、その他
  • 日程:
  • 2011年11月9日(水)13時〜10日(木)17時
  • 場所:
  • 大阪電気通信大学(大阪府寝屋川市)
  • 内容:
  • 1日目(第1部)「極限表面界面解析技術の最前線」
    2日目(第2部)「層状化合物を用いたデバイス開発の新展開
             〜化合物中の電子の振る舞いと応用〜」
  • シンポジウムの詳細:
  • http://www.feri.osakac.ac.jp/
  • 申込先/問合先:
  • 〒572-8530 大阪府寝屋川市初町18-8
    大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所 事務室(鉄尾 実與資)
    電話(072)824-1131 FAX(072)820-9020
    E-mail: feri@isc.osakac.ac.jp